旨在满足SiC/GaN衬底生产抛光的规格要求，针对批量和单晶圆CMP系统优化设计的、低成本的悬浮液。先进的配方提供超高的抛光速度，同时保持高平整度，零亚表面损伤和低缺陷低划痕。

产品特点：

■ 氧化铝悬浮液

■ 固体含量5%（重量）

■ 添有KMnO4氧化剂

■ 粒径：200-300 纳米

■ pH：3-4

■ 20公斤塑料桶包装

■ 建议匹配 DuPont Suba 800 or Suba800 M3、IC1000及Fujibo等多种抛光垫

■ 快速去除损伤层和划痕

X-射线衍射图

电子电镜图