旨在满足SiC/GaN衬底生产抛光的规格要求，针对批量和单晶圆CMP系统优化设计的、低成本的悬浮液。可供客户在现场添加客户自有配方，该产品提供超高的抛光速度，同时保持高平整度，零亚表面损伤和低缺陷低划痕。
产品特点：
■ 氧化铝悬浮液
■ 添有KMnO4氧化剂
■ 固体含量5%（重量）
■ 粒径：200-300 纳米
■ pH：8-10
■ 20公斤塑料桶包装
■ 建议匹配 DuPont Suba 800 or Suba800 M3、IC1000及Fujibo等多种抛光垫
■ 快速去除损伤层和划痕
